☆☆☆Web配信セミナー☆☆☆
☆☆☆本セミナーは、Zoomを使用して、行います。☆☆☆
開催日時：2024年11月12日（火）10:30-16:30
受 講 料：お1人様受講の場合 53,900円[税込]／1名
1口でお申込の場合 66,000円[税込]／1口（3名まで受講可能）
★本セミナーの受講にあたっての推奨環境は「Zoom」に依存しますので、ご自分の環境が対応しているか、
お申込み前にZoomのテストミーティング（http://zoom.us/test）にアクセスできることをご確認下さい。
★インターネット経由でのライブ中継ため、回線状態などにより、画像や音声が乱れる場合があります。
講義の中断、さらには、再接続後の再開もありますが、予めご了承ください。
★受講中の録音・撮影等は固くお断りいたします。
| ＜略歴、等＞ | 2000年3月 東京工業大学大学院 総合理工学研究科 物質電子化学専攻 博士後期課程 修了 博士（工学） 「Synthesis and Reactions of Novel Polymers Derived from Cysteine」 2000年4月 山形大学大学院 ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー 講師（中核的研究機関研究員） 2001年4月 神奈川大学 工学部 応用化学科 助手 2007年4月 神奈川大学 工学部 応用化学科 助教 2009年4月 神奈川大学 工学部 応用化学科 准教授 2012年4月 関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 准教授 2016年4月 関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科 教授 現在に至る ・2007年 高分子学会「日立化成賞」“環状オリゴマーを基盤とした光機能性材料（レジスト、屈折率変換材料）の開発”（平成19年） ・2019年合成樹脂工業協会・学術賞「高性能なネットワーク構造の創製を目的とした新規硬化反応の研究開発」（平成24年） ・フォトポリマー学会 理事 ・大阪ニュークリアサイエンス協会 参与 |
フォトレジスト材料の開発は、G線、i線、KrFおよびArFエキシマーレーザーと、露光システムの変遷により、そのレジスト材料の骨格を変化させ、それぞれに対応したレジスト材料が開発されてきた。現在、極端紫外線（EUV）露光システムが実用段階として運用されようとしている。しかしながら、EUV露光システムの能力を十分に引き出せるレジスト材料が開発されていない。
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